本節簡介：通過《春秋藝苑》來掌握聯系前面老師所講的功能。
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要使用圖片或動畫進行蒙版轉場：進行蒙版的圖層為被轉場的圖層，而轉場圖層進行隱藏，轉場工具圖層要放在被轉場圖層的上方
如果進行書寫特效的時候調節描邊中的筆刷大小時，當調到最大的時候仍然不夠覆蓋圖像，用特效--蒙版--簡易蒙版，將數值調小
因為Stroke自帶的描邊大小不足以括住筆劃，所以添加Matte/Simple Choker的特效，讓遮罩向外擴張（負數是向外擴張，正數調整是收縮）
因為Stroke自帶的描邊大小不足以括住筆劃，所以添加Matte/Simple Choker的特效，讓遮罩向外擴張（負數是向外擴張，正數調整是收縮）
用鋼筆工具描原點的筆劃，添加Stroke（動態描邊）的特效，雖然將Brush Size拉到最大但還是不夠括住筆劃
導入原點，Mode改為Multiply（正片疊底），用遮罩中的的減模式去掉水印
將墨點2導入，S縮放，Mode改為Multiply（正片疊底），添加Fast Brul與降低T透明度
為藝字做圓形遮罩，為邊緣添加羽化（雙擊M/F），做K幀動畫，實現字體暈開的效果，在其開頭為其添加Fast Brul效果
反轉亮度蒙板Luma Inverted Matte，是暗調顯示亮部淡出，與原先Luma Matte是相反的
亮度蒙版就是要黑白對比特別明顯的圖片才行，如果想要的效果和自己的相反那就用反轉亮度蒙版
第一鏡頭和第二鏡頭的轉場是水墨暈開的效果，加入水墨圖片，調節中心點為中心，上面是蒙板層，下面是要顯示的圖層第二鏡頭，第二鏡頭蒙版選擇alpha蒙版，邊緣太銳利，alpha蒙版墨點轉場，快速模糊柔化邊緣。
simple choker 配合stroke使用，可使遮罩擴張。生成—描邊—有了兩個遮罩，所以不是all masks，選對masks，雖然提高了筆刷大小，但還是沒有完全書寫出來，厚度不夠此時使用特效：matte（蒙板）—simple choker(簡單抑制)：沿著Alpha的區域，向外擴張或向內收縮，類似于mask里的遮罩擴張。
文字特效為向外潤開制作方法：先設置遮罩——調節遮罩屬性——遮罩擴張（Mask Expansion）做動畫
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