本節簡介:建立立方體作為基礎粒子,建立克隆使粒子組成Logo,添加隨機效果器,建立粒子四下散開的效果。
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復制一份,分別改為大粒子、小粒子。找到克隆—立方體改小參數為5.
再添加一個隨機效果器,刪除XY軸,只保留Z參數。將克隆、隨機、隨機1打組(空白對象)。
勾選旋轉,添加旋轉度。K幀:第0幀K一幀,180幀—將效果器拉開整個文字K一幀。
返回到隨機效果器—位置,給X、Y軸加一點參數。打開縮放,勾選等比縮放,設置為0.3,
調整渲染設置:1280*720、29.97幀/秒、抗鋸齒為最佳。選項中的反射深度為2.保存—深度選擇16位。
將衰減效果器調整到覆蓋整個文字區域,將衰減樣條改為立方體。將時間線設為180幀。
打開隨機參數,關閉X、Y軸,只留下Z軸,看右視圖,拉伸至1700左右,將衰減形狀改為球體。
文本(文字)—居中—擠壓—克隆+立方體—克隆對象加入立方體+隨機效果器。